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三星之后 SK海力士也要在内存上使用EUV光刻机:10亿一台

2020-05-30 09:19
快科技
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ASML的EUV光刻机已经成为7nm以下制程的关键了,三星、台积电、Intel都在购买单价高达10亿元的EUV光刻机用于生产。除了CPU之外,内存工艺也会逐步导入EUV光刻机,三星之后SK海力士也要这么做。

据韩国媒体报道,全球第二大DRAM内存供应商SK海力士已经在研发1a nm工艺的内存,内部代号“南极星”,具体节点大概在15nm,预计会引入EUV光刻机生产。

对内存来说,它跟CPU逻辑工艺一样面临着需要微缩的问题,EUV光刻机可以减少多重曝光工艺,提供工艺精度,从而可以减少生产时间、降低成本,并提高性能。

不过内存使用EUV工艺问题也不少,首要问题就是EUV光刻机售价太高,10亿一台,还要考虑到维护费用,所以初期要承担不小的成本压力。

目前SK海力士最先进的内存工艺主要是1y、1z nm,今年下半年这两种工艺将占到40%的产能比重。

3月初,三星表示,将从第四代10nm级(D1a)DRAM或高端级14nm级DRAM开始全面导入EUV,明年基于D1a大规模量产DDR5和LPDDR5内存芯片,预计会使12英寸晶圆的生产率翻番。

三星之后 SK海力士也要在内存上使用EUV光刻机:10亿一台


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